EH-XC10 Körperpflege | Panasonic Schweiz

Funktionen

Optimale
Make-up-Entfernung

Gründliche Gesichtsreinigung beginnt bei der Entfernung des Make-Ups. Für ein sanftes und trotzdem sorgfältiges Vorgehen wird die Wärmeplatte (43°C oder 48°C) an der Unterseite der Cleansing Brush über das Gesicht geführt, um das Make-Up wirkungsvoll zu lockern.

Angenehmer Schaum für strahlende Haut

Dank der patentierten Mikroschaumtechnologie ist eine besonders gründliche Reinigung möglich - es wird ein feinerer Schaum erzeugt als es per Hand möglich wäre. Das Reinigungsprodukt wird an der hinteren Oberseite der Cleansing Brush in eine speziell dafür entwickelte Kammer eingefüllt und kann sich somit auf dem Weg zur Bürste optimal in Mikroschaum verwandeln.*

* Das Mass an Schäumung kann je nach Reinigungsmittel unterschiedlich sein.

Sanfte und porentiefe Reinigung

Die extrem feinen Borsten der weichen Bürste wurden für eine tiefere - aber trotzdem angenehm sanfte - Gesichtsreinigung entwickelt. Jede Borste ist an der Spitze auf 0,01 mm abgeschrägt, um Unreinheiten entfernen zu können, die mit der Hand nicht zu erreichen wären. Dank der weichen Bürste steht damit einer optimalen täglichen Reinigungsroutine nichts mehr im Wege.

Tiefenreinigung der Problemzonen

Um den unterschiedlichen Anforderungen der Haut gerecht zu werden, unterstützt eine zweite Bürste mit Silikonspitzen die gründliche Reinigung. Die porentiefe Reinigung der T-Zone mit dem Porenbürstenaufsatz empfiehlt sich ein- oder zweimal wöchentlich - für strahlend schöne Haut im gesamten Gesicht.

Höhere Effektivität als Handwäsche

In Tests mit einem Reinigungsmittel schnitt die Make-up-Entfernung mit der Wärmeplatte 18 Mal besser ab* als die Reinigung per Hand.

* Ergebnisse des Vergleichs zwischen Make-up-Entfernung mit Wärmeplatte/Bürstenreinigung und manueller Reinigung mit dem gleichen Reinigungsmittel.