測定機の座標系は、ステージと独立した3枚の参照平面（ミラー）で構成され、周波数安定化He-Neレーザを光源としたレーザ干渉法によりXYZ各軸を分解能0.3nmで測長します。これによりステージの直角度・真直度による影響を抑え、高精度測定を実現します。

• 座標軸による測定誤差：0.05μm以内（～100mm）、0.3μm以内（～500mm）

超低測定力で測定物の高精度スキャニング測定が可能です。
スタイラスはマイクロエアスライダーで保持され、フォーカス用レーザによりスタイラスの動きを検出し、測定力が一定になるようにAFPの位置を測定物の形状に合わせて追従します。

• 測定力：0.15～0.30mN（15～30mgf）※UA3P-3100/4000は0.05～0.30mN、UA3P-5000Hは0.10～0.30mN
  
• スタイラス：先端角30度、r=2μmダイヤスタイラス使用可能

高精度に検出されたプローブミラーの傾きをXYステージにフィードバックし、低接触力（0.3ｍＮ）のスキャン測定が可能です。レンズ鏡筒（バレル）などの樹脂製品で変形無く測定が可能です。

• 測定力：0.3mN（30mgf）
• 測定精度：±0.15μｍ（90°傾斜測定時）
• 測定最大角度：水平方向測定時 45°～90°（水平面に対する角度）、垂直方向測定時 80°～90°（水平面に対する角度）

簡単な操作で高精度な測定を実現。あらゆる設計情報に対応でき、測定物の設置誤差を3次元的に補正して正確な形状測定が可能です。

あらゆる設計情報に対応

• 光学設計式
• 3次元点群データ

測定中心を見つけ、軸上、面上を走査測定

測定データと設計式の差を数値化

上面測定データと側面測定データを合成し、側面基準でレンズや金型の光軸の偏心、傾きが評価可能